[实用新型]纳米陶瓷涂层加工中使用的基体恒温控制系统无效
| 申请号： | 200720038299.5 | 申请日： | 2007-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN201049964Y | 公开（公告）日： | 2008-04-23 |
| 发明（设计）人： | 黄因慧;田宗军;沈理达;王东生;刘志东 | 申请（专利权）人： | 南京航空航天大学 |
| 主分类号： | C23C24/08 | 分类号： | C23C24/08;G05D23/19 |
| 代理公司： | 南京天华专利代理有限责任公司 | 代理人： | 瞿网兰 |
| 地址： | 210016*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种纳米陶瓷涂层加工中使用的基体恒温控制系统，属于材料表面加工技术领域，其特征是它主要由气源(1)、密封罐(2)、液氮(3)、冷却腔(4)组成，液氮(3)罐装在密封罐(2)中，气源(1)连接有进气管(5)，进气管(5)一端的进气口与气源(1)的出气口相连，另一端的出气口插入密封罐(2)中的液氮(3)中；冷却腔(4)连接有出气管(6)，出气管(6)一端的进气口插入密封罐(2)中的液氮(3)的上部，其另一端的出气口与冷却腔(4)的进气口相连，冷却腔(4)直接或间接与基体(7)相接触。本实用新型解决了现有的陶瓷纳米涂层加工装置存在的基体受热变形影响最终涂层质量的问题，具有结构简单，使用、制造方便，成本低的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 陶瓷 涂层 加工 使用 基体 恒温 控制系统 | ||
【主权项】：
1.一种纳米陶瓷涂层加工中使用的基体恒温控制系统，其特征是它主要由气源(1)、密封罐(2)、液氮(3)、冷却腔(4)组成，液氮(3)罐装在密封罐(2)中，气源(1)连接有进气管(5)，进气管(5)一端的进气口与气源(1)的出气口相连，另一端的出气口插入密封罐(2)中的液氮(3)中；冷却腔(4)连接有出气管(6)，出气管(6)一端的进气口插入密封罐(2)中的液氮(3)的上部，其另一端的出气口与冷却腔(4)的进气口相连，冷却腔(4)直接或间接与基体(7)相接触。
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