[实用新型]一种抗紫外线积层包装膜无效

专利信息
申请号: 200720000729.4 申请日: 2007-02-14
公开(公告)号: CN201031024Y 公开(公告)日: 2008-03-05
发明(设计)人: 郑钦中 申请(专利权)人: 台湾励远实业有限公司
主分类号: B65D65/20 分类号: B65D65/20;B65D65/40;B32B27/08;B32B33/00;B32B9/00
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 代理人: 孙皓晨
地址: 中国*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型提供一种抗紫外线积层包装膜,其包括:一第一薄膜层;一抗紫外线吸收剂层,设置涂布于第一薄膜层上方,提供抵抗紫外线穿透;一半透明染料层,是设置涂布于抗紫外线吸收剂层上方;一第二薄膜层,是设置覆盖在半透明染料层上,且与该第一薄膜层组合形成包覆,提供保护该抗紫外线吸收剂层、半透明染料层,不会因外力刮毁、破坏;根据上述构件组成,提供该抗紫外线吸收剂层减少紫外线的分光吸光度透过率,并利用半透明染料层来遮蔽部分可视光线,达到保护对紫外线及可视光线会产生敏感变化物质的包装作用,又可透视该物质。
搜索关键词: 一种 紫外线 包装
【主权项】:
1.一种抗紫外线积层包装膜,其特征在于其包括:一第一薄膜层,其上方设置抗紫外线吸收剂层、半透明染料层,且与第二薄膜层组合形成包覆保护作用;一抗紫外线吸收剂层,设置涂布于第一薄膜层上方,提供抵抗紫外线穿透;一半透明染料层,是设置涂布于抗紫外线吸收剂层上方,提供抵抗遮蔽部分可视光线穿透;一第二薄膜层,是设置覆盖在半透明染料层上,且与该第一薄膜层组合形成包覆,提供保护该抗紫外线吸收剂层、半透明染料层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾励远实业有限公司,未经台湾励远实业有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200720000729.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top