[发明专利]无电镀金浴、无电镀金方法及电子部件有效
| 申请号: | 200710307629.0 | 申请日: | 2007-12-06 |
| 公开(公告)号: | CN101319318A | 公开(公告)日: | 2008-12-10 |
| 发明(设计)人: | 木曾雅之;西条义司;上玉利徹 | 申请(专利权)人: | 上村工业株式会社 |
| 主分类号: | C23C18/42 | 分类号: | C23C18/42 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 李帆 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 一种无电镀金浴包含水溶性金化合物、络合剂、醛类化合物、和一种由R1-NH-C2H4-NH-R2或R3-(CH2-NH-C2H4-NH-CH2)n-R4所表征的胺类化合物(其中R1至R4代表-OH、-CH3、-CH2OH、-C2H4OH、-CH2N(CH3)2、-CH2NH(CH2OH)、-CH2NH(C2H4OH)、-C2H4NH(CH2OH)、-C2H4NH(C2H4OH)、-CH2N(CH2OH)2、-CH2N(C2H4OH)2、-C2H4N(CH2OH)2或者-C2H4N(C2H4OH)2,和n是一个1到4的整数)。该无电镀金浴能够在稳定的沉积速率下被实施,而不会腐蚀待镀的底基金属。由于高沉积速率和浸渍和还原的类型,在一种溶液镀层的增厚是可能的,并且镀层颜色没有退化以提供良好的外观,同时保持了金所固有的柠檬黄的颜色。 | ||
| 搜索关键词: | 镀金 方法 电子 部件 | ||
【主权项】:
1.一种无电镀金浴,含有水溶性金化合物、络合剂、醛类化合物、和一种由下面的通式(1)或(2)所表征的胺类化合物。R1-NH-C2H4-NH-R2(1)R3-(CH2-NH-C2H4-NH-CH2)n-R4(2)(在分子式(1)和(2)中,R1、R2、R3和R4代表-OH、-CH3、-CH2OH、-C2H4OH、-CH2N(CH3)2、-CH2NH(CH2OH)、-CH2NH(C2H4OH)、-C2H4NH(CH2OH)、-C2H4NH(C2H4OH)、-CH2N(CH2OH)2、-CH2N(C2H4OH)2、-C2H4N(CH2OH)2或者-C2H4N(C2H4OH)2且可以相同或不同,且n是一个1到4的整数)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理





