[发明专利]无电镀金浴、无电镀金方法及电子部件有效

专利信息
申请号: 200710307629.0 申请日: 2007-12-06
公开(公告)号: CN101319318A 公开(公告)日: 2008-12-10
发明(设计)人: 木曾雅之;西条义司;上玉利徹 申请(专利权)人: 上村工业株式会社
主分类号: C23C18/42 分类号: C23C18/42
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 李帆
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种无电镀金浴包含水溶性金化合物、络合剂、醛类化合物、和一种由R1-NH-C2H4-NH-R2或R3-(CH2-NH-C2H4-NH-CH2)n-R4所表征的胺类化合物(其中R1至R4代表-OH、-CH3、-CH2OH、-C2H4OH、-CH2N(CH3)2、-CH2NH(CH2OH)、-CH2NH(C2H4OH)、-C2H4NH(CH2OH)、-C2H4NH(C2H4OH)、-CH2N(CH2OH)2、-CH2N(C2H4OH)2、-C2H4N(CH2OH)2或者-C2H4N(C2H4OH)2,和n是一个1到4的整数)。该无电镀金浴能够在稳定的沉积速率下被实施,而不会腐蚀待镀的底基金属。由于高沉积速率和浸渍和还原的类型,在一种溶液镀层的增厚是可能的,并且镀层颜色没有退化以提供良好的外观,同时保持了金所固有的柠檬黄的颜色。
搜索关键词: 镀金 方法 电子 部件
【主权项】:
1.一种无电镀金浴,含有水溶性金化合物、络合剂、醛类化合物、和一种由下面的通式(1)或(2)所表征的胺类化合物。R1-NH-C2H4-NH-R2(1)R3-(CH2-NH-C2H4-NH-CH2)n-R4(2)(在分子式(1)和(2)中,R1、R2、R3和R4代表-OH、-CH3、-CH2OH、-C2H4OH、-CH2N(CH3)2、-CH2NH(CH2OH)、-CH2NH(C2H4OH)、-C2H4NH(CH2OH)、-C2H4NH(C2H4OH)、-CH2N(CH2OH)2、-CH2N(C2H4OH)2、-C2H4N(CH2OH)2或者-C2H4N(C2H4OH)2且可以相同或不同,且n是一个1到4的整数)。
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