[发明专利]平板式等离子体增强化学汽相淀积设备的反应室结构

摘要

本发明一种平板式等离子体增强化学汽相淀积(PECVD)设备的反应室结构，涉及微电子技术，是由内真空室与外腔室嵌套组成；内真空室上段的顶壁由具有伸缩功能的波纹管与外腔室连接；内真空室上段的顶壁外侧通过螺杆与外腔室顶面的堵转电机连接，以堵转电机控制内真空室上段的升降；内真空室的工作压强高于外腔室。反应室内真空室中的载片盘与内真空室下段的侧壁不接触，避免载片台上的热量向外壁传导，以便载片台可以很快加热到很高的温度。本发明的反应室结构可以避免系统漏气的影响，明显地改善淀积薄膜的质量，降低粉尘；有利于提高衬底温度和新材料的生长。

主权项

1、一种平板式等离子体增强化学汽相淀积设备的反应室结构，包括外腔室、进气管，射频电极，载片盘，下加热器，真空阀，机械泵，下加热器电源接口；其特征在于，还设有内真空室，内真空室位于外腔室内，两者嵌套组装；内真空室包括内真空室上、下段两部分，上段的顶壁由具有伸缩功能的波纹管与外腔室内壁固连，且上段的顶壁外侧通过螺杆与外腔室外顶面的堵转电机连接，以堵转电机控制内真空室上段的升降；内真空室的工作压强高于外腔室；内真空室中的载片盘与内真空室下段的侧壁不接触，避免载片台上的热量向外壁传导，以便载片台可以很快加热到很高的温度。