[发明专利]一种采用过渡承接装置的光刻机硅片台双台交换系统有效
| 申请号： | 200710303712.0 | 申请日： | 2007-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN101231471A | 公开（公告）日： | 2008-07-30 |
| 发明（设计）人： | 朱煜;张鸣;汪劲松;徐登峰;尹文生;胡金春;杨开明;李广;闵伟;段广洪 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/68 |
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| 地址： | 100084北京市100*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种采用过渡承接装置的光刻机硅片台双台交换系统，属于半导体制造装备技术领域。本发明含有运行于预处理工位的硅片台和运行于曝光工位的硅片台；在预处理工位和曝光工位上分别设有一个H型驱动单元，所述的H型驱动单元由双侧X向直线电机以及Y向直线电机组成，用于驱动硅片台在预处理工位和曝光工位上作X方向和Y方向运动。本发明的技术要点是在基台中间设置有两个过渡承接装置，过渡承接装置上安装有摩擦轮，当H型驱动单元与其精确对准时，靠摩擦轮的摩擦力，实现硅片台从预处理工位过渡到曝光工位。有效避免了导轨精密对接的问题，降低了系统结构的复杂性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 采用 过渡 承接 装置 光刻 硅片 台双台 交换 系统 | ||
【主权项】：
1.一种采用过渡承接装置的光刻机硅片台双台交换系统，该系统含有运行于预处理工位(18)的硅片台和运行于曝光工位(19)的硅片台，所述的两个硅片台设置在一基台(11)上，并通过气浮轴承悬浮在基台表面，在预处理工位和曝光工位上分别设有一个H型驱动单元(3)，所述的H型驱动单元(3)由双侧X向直线电机(5)以及Y向直线电机(7)组成，用于驱动所述硅片台在预处理工位和曝光工位上作X方向和Y方向运动，其特征在于：在位于预处理工位和曝光工位之间的基台上设有两个过渡承接装置(15)，所述的过渡承接装置包括摩擦轮(16)和用于驱动摩擦轮旋转的电机。
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