[发明专利]一种测量位移的外差干涉测量系统及其测量方法有效

专利信息
申请号: 200710173149.X 申请日: 2007-12-26
公开(公告)号: CN101216286A 公开(公告)日: 2008-07-09
发明(设计)人: 马明英;段立峰 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司
主分类号: G01B9/02 分类号: G01B9/02;G01B11/02
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 201203上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种测量位移的外差干涉测量系统和测量方法,测量系统包含工件台反射镜组和激光外差干涉仪;工件台反射镜组包含安装在工件台侧面上的与光轴平行的第一平面反射镜,与光轴成一定角度的第二平面反射镜;激光外差干涉仪包含偏振分光棱镜,角锥棱镜,与光轴成一定角度的参考平面反射镜,两个四分之一波片。测量方法是利用激光器通过偏振分光棱镜后产生的参考光束与测量光束分别经过多次反射与透射后进入到光电转换元件,处理得到光程差OPD,再得到工件台的z向位移Z。本发明不必使用安装在投影物镜两侧的平面反射镜,结构简单,同时使投影物镜在x方向不必增加额外的尺寸,由于减少了平面反射镜的使用数量,从而降低了测量系统的成本。
搜索关键词: 一种 测量 位移 外差 干涉 系统 及其 测量方法
【主权项】:
1.一种测量位移的外差干涉测量系统,其特征在于,包含工件台反射镜组和激光外差干涉仪(18,38);所述的工件台反射镜组包含安装在工件台(13,33)侧面上的与光轴平行的第一平面反射镜(14,34),以及与光轴成一定角度的第二平面反射镜(15,35);所述的激光外差干涉仪(18,38)包含偏振分光棱镜(21,41),角锥棱镜(19,39),与光轴成一定角度的参考平面反射镜(23,43)以及两个四分之一波片(20,40)(22,42);所述的角锥棱镜(19,39)、偏振分光棱镜(21,41)、一个四分之一波片(22,42)和参考平面反射镜(23,43),在竖直方向上依次排列;所述的偏振分光棱镜(21,41)和另一个四分之一波片(20,40),在水平方向上依次排列。
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