[发明专利]制备非线性光学金属－有机硼聚合物晶体材料的方法无效
| 申请号： | 200710172144.5 | 申请日： | 2007-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN101230071A | 公开（公告）日： | 2008-07-30 |
| 发明（设计）人： | 徐忻;刘燕;崔勇 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学 |
| 主分类号： | C07F5/02 | 分类号： | C07F5/02;C07F3/08 |
| 代理公司： | 上海交达专利事务所 | 代理人： | 王锡麟;王桂忠 |
| 地址： | 200240*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种化工技术领域的制备非线性光学金属－有机硼聚合物晶体材料的方法，首先合成配体H3L即三－(4－吡啶－2，3，5，6－四甲基苯)硼烷，然后制备同手性二阶非线性光学金属－有机硼聚合物晶体材料，即将配体H3L和金属镉盐按摩尔比2∶1混合，加入乙醇和甲苯的混合溶剂，将此反应液置于样品瓶中反应，反应结束后将晶体取出，洗涤、晾干，得二阶非线性光学金属－有机硼聚合物晶体材料，其结构通式为：[MX2L]·2H2O，其中MX2代表CdCl2、Br2、I2、(NO3)2、(OAc)2、(ClO4)2中的一种。与现有技术相比，本发明不仅反应时间短、条件温和，而且所得晶体材料的纯度和产率都较高。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 非线性 光学 金属 有机 聚合物 晶体 材料 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制备非线性光学金属-有机硼聚合物晶体材料的方法，其特征在于，首先合成配体H3L即三-(4-吡啶-2，3，5，6-四甲基苯)硼烷，然后制备同手性二阶非线性光学金属-有机硼聚合物晶体材料，即将配体H3L和金属镉盐按摩尔比2：1混合，加入乙醇和甲苯的混合溶剂，将此反应液置于样品瓶中反应，反应结束后将晶体取出，洗涤、晾干，得二阶非线性光学金属-有机硼聚合物晶体材料；所述非线性光学金属-有机硼聚合物晶体材料，结构通式为：[MX2L]·2H2O，其中MX2代表CdCl2、Br2、I2、(NO3)2、(OAc)2、(ClO4)2中的一种。
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