[发明专利]用于制造抗反射薄膜的化合物以及抗反射薄膜的制造方法

摘要

一种用于制造抗反射薄膜的化合物以及抗反射薄膜的制造方法。化合物具有Si(OR)₃-O-[Si(OR)₂-O]_n-Si(OR)₃的结构，式中，R选自C₃H₉-、C₂H₅-或CH₃-，并且n为1至15的整数。方法步骤包括：准备第一溶液，通过将上述化合物、氟代硅氧烷基单体、催化剂及溶剂的混合溶液进行溶胶-凝胶反应后而形成；将第一溶液涂布于表面；以及进行干燥工序，以形成抗反射薄膜。氟代硅氧烷基单体，具有CF₃(CF₂)_mCH₂CH₂-Si(OX)₃的结构，式中，X选自C₃H₉-、C₂H₅-或CH₃-，m为0至10的整数。本发明的薄膜具有较低的光反射率，并且具有较高的耐磨耗度和硬度的物理性质。

主权项

1. 一种用于制造抗反射薄膜的化合物，具有下式所示的结构：Si(OR)3-O-[Si(OR)2-O]n-Si(OR)3，其中，R选自C3H9-、C2H5-或CH3-；并且n为1至15的整数。