[发明专利]原子氢处理设备无效
| 申请号： | 200710164874.0 | 申请日： | 2007-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN101256932A | 公开（公告）日： | 2008-09-03 |
| 发明（设计）人： | 土师宏;有田洁;森迫勇 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/00 | 分类号： | H01L21/00;H01L21/3065;H01L21/302;H01L21/306;H01L21/027;H01L21/311 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 肖鹂 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在用于使原子氢与处理室(3)中的处理对象(5)(例如衬底)接触从而进行表面处理的原子氢处理设备中，原子氢发生器(11)和处理室能够通过用于引入的开口部分(2c)相互连通。原子氢发生器(11)具有通过使氢气与发生室(21a)加热器箱(12)中包括的钨加热器接触而产生原子氢的功能，用于引入的开口部分(2c)能通过闸板构件(7)自由地开启和关闭。由此，能够独立于处理室(3)的状态地使发生室保持在压力降低状态，因此消除了钨加热器升高温度和冷却钨加热器的等待时间。因此，能够提高原子氢处理的处理效率。 | ||
| 搜索关键词： | 原子 处理 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于使原子氢与处理对象接触从而对处理对象进行表面处理的原子氢处理设备，包括：容纳处理对象的处理室；原子氢发生器，具有设置成与处理室可交换的发生室，并用于使氢气与发生室中的热发生器接触，从而产生原子氢；用于将氢气供应到发生室的氢气供应部分；开启和关闭处理室和发生室之间连通口的开启和关闭装置；用于分别减小处理室和发生室中压力的排气部分，和控制热发生器、开启和关闭装置及排气部分的控制部分。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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