[发明专利]曝光方法及设备以及器件制造方法无效
| 申请号： | 200710154793.2 | 申请日： | 2001-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN101135864A | 公开（公告）日： | 2008-03-05 |
| 发明（设计）人： | 塚越敏雄 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/00;G01M11/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 车文;代易宁 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开了一种通过投影光学系统把图案转印到物体上的曝光方法，根据与所述投影光学系统的波前象差有关的信息、与应当转印到所述物体上的图案以及该图案的照明条件相对应的泽尔尼克变量表、以及与调节所述投影光学系统成象特性的设备中的调节量和泽尔尼克多项式各项系数的变化的关系有关的数据，调节所述投影光学系统的成象特性，通过调节所述成象特性后的投影光学系统把图案影像投影到所述物体上。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 设备 以及 器件 制造 | ||
【主权项】：
1.一种通过投影光学系统把图案转印到物体上的曝光方法，根据与所述投影光学系统的波前象差有关的信息、与应当转印到所述物体上的图案以及该图案的照明条件相对应的泽尔尼克变量表、以及与调节所述投影光学系统成象特性的设备中的调节量和泽尔尼克多项式各项系数的变化的关系有关的数据，调节所述投影光学系统的成象特性，通过调节所述成象特性后的投影光学系统把图案影像投影到所述物体上。
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