[发明专利]一种具有纳米孔的防反射薄膜,及其制备方法、用途无效
| 申请号： | 200710151261.3 | 申请日： | 2007-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN101149442A | 公开（公告）日： | 2008-03-26 |
| 发明（设计）人： | 栾玉成 | 申请（专利权）人： | 栾玉成;方针 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;B32B7/02 |
| 代理公司： | 北京安博达知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐国文 |
| 地址： | 518020广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种具有纳米孔的防反射薄膜，及其制备方法、用途。本发明的防反射薄膜是在透明基材层上形成聚合防反射涂层，其中聚合防反射涂层中具有孔尺寸均匀、直径为0.5－5纳米的纳米孔，所说的纳米孔是采用临界胶束浓度的离子型表面活性剂为模板，通过进一步去除模板而形成的。本发明提供的防反射膜折射率低于现有技术，同时机械性能提高、稳定性强、原料便宜易得、工艺简单。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 纳米 反射 薄膜 及其 制备 方法 用途 | ||
【主权项】：
1.一种具有纳米孔的防反射薄膜，包括基材层和防反射涂层，其特征在于，所述基材层为透明材料，所述防反射涂层中随机分布或有序分布孔尺寸均匀的纳米孔，纳米孔直径为0.5-5纳米，孔间距为0.5-50纳米，所述防反射涂层是以分子式为M-(OR)x的化合物为原料水解形成，其中M为：Si、Ti、Zr、Hf、Ta、Nb或Al；R为：CH3、C2H5或C3H7；当M为Al，X为3；当M为Si、Ti、Zr、Hf，X为4；当M为Ta、Nb，X为5。
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