[发明专利]一种在柔性基材上沉积磁性薄膜的方法有效
| 申请号： | 200710142929.8 | 申请日： | 2007-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN101100742A | 公开（公告）日： | 2008-01-09 |
| 发明（设计）人： | 曹瑜;李新宇;潘峰;李晓伟 | 申请（专利权）人： | 中国印钞造币总公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/34;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 | 代理人： | 陈红 |
| 地址： | 100044北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种向柔性基材上沉积磁性薄膜的真空卷绕镀方法。该方法是将磁性材料制成的掩模板装配到真空卷绕镀膜设备中，沿行进方向，与基材同步行进；在镀膜室的靶室隔板顶端安装磁体，在磁体和磁性材料制成的掩模板所形成磁通路的作用下，使用溅射法或蒸发法，向柔性基材上镀膜。该方法在薄膜沉积的同时，有效地实现了在大面积的基材上获得具有连续二维图案的磁性薄膜，同时还能控制薄膜表面的磁各向异性，且不会对环境造成污染。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 柔性 基材 沉积 磁性 薄膜 方法 | ||
【主权项】：
1.一种向柔性基材上沉积磁性薄膜的真空卷绕镀方法，通过位于卷绕室内的放卷辊装置实现连续放卷；在位于镀膜室的薄膜沉积区间内，向柔性基材上镀金属薄膜，之后沿原工作方向回到卷绕室；其特征在于：向卷绕室中加入磁性材料制备的掩模板，掩模板和基材同步行进；在所述薄膜沉积区间相间隔地设置至少两个磁体，通过掩模板来通导磁体间的磁通路，从而控制沉积薄膜表面的磁各向异性。
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