[发明专利]光学薄膜的制造方法、光学薄膜、偏振片、转印材料、液晶显示装置以及偏振光紫外线曝光装置

摘要

本发明提供一种在包括偏振光紫外线照射工序的光学薄膜的制造方法中，可以以高生产率制造显示出良好的光学特性及膜强度的光学薄膜的方法。该光学薄膜的制造方法，其特征在于，其是一种以(1)～(3)的顺序包括下述工序(1)～(3)的光学薄膜的制造方法：(1)在取向膜的表面形成含有聚合性液晶化合物及二色性聚合引发剂的聚合性组合物构成的层；(2)将所述层中的聚合性液晶化合物的分子形成为第一取向状态；(3)向所述层照射偏振光紫外线，使所述聚合性液晶化合物进行聚合，并且将所述聚合性液晶化合物的分子固定于第二取向状态从而形成光学各向异性层，在所述偏振光紫外线的每单位面积的照射量(J/cm²)中，消光比为1以上8以下的偏振光紫外线所占的比例为15％以下。

主权项

1.一种光学薄膜的制造方法，其特征在于，其是一种以(1)～(3)的顺序包括下述工序(1)～(3)的光学薄膜的制造方法：(1)在取向膜的表面形成由含有聚合性液晶化合物及二色性聚合引发剂的聚合性组合物构成的层；(2)将所述层中的聚合性液晶化合物的分子形成为第一取向状态；(3)向所述层照射偏振光紫外线，使所述聚合性液晶化合物进行聚合，并且将所述聚合性液晶化合物的分子固定为第二取向状态，从而形成光学各向异性层，在所述偏振光紫外线的每单位面积的照射量(J/cm2)中消光比为1以上8以下的偏振光紫外线所占的比例为15％以下。