[发明专利]一种用于真空溅镀装置的辅助导引系统及装置无效

专利信息
申请号: 200710142084.2 申请日: 2007-08-22
公开(公告)号: CN101372738A 公开(公告)日: 2009-02-25
发明(设计)人: 郭勋聪 申请(专利权)人: 钰衡科技股份有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 北京申翔知识产权代理有限公司 代理人: 周春发
地址: 台湾省台南县*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明关于一种用于真空溅镀装置的辅助导引系统,包括设置于该真空溅镀装置一侧的至少一气压缸,提供辅助及缓冲动力;分设于该气压缸二进出气口的二流量控制组件,调控高压气体进出该气压缸的流量以控制门板作动的速度;设置于该气压缸外侧的一辅助氮气缸;及以气压管路与该流量控制组件连接的一方向控制组件,调控气压工作回路至预定状态;藉由本发明的辅助导引系统辅助真空溅镀装置的门板作动以进行开启或关闭。
搜索关键词: 一种 用于 真空 装置 辅助 导引 系统
【主权项】:
1.一种用于真空溅镀装置的辅助导引系统,包括设置于该真空溅镀装置一侧的至少一气压缸;分设于该气压缸二进出气口的二流量控制组件;设置于该气压缸外侧的一辅助氮气缸;以及以气压管路与该流量控制组件连接的一方向控制组件;其中,该导引步骤如下:该方向控制组件,调控气压工作回路至预定状态;该流量控制组件,调控高压气体进出该气压缸的流量以控制门板作动的速度;该气压缸,提供辅助及缓冲动力使门板开启或关闭;以及该辅助氮气缸,提供辅助动力使门板开启或关闭。
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