[发明专利]沟槽图案的深度的测定方法和测定装置有效
| 申请号: | 200710140995.1 | 申请日: | 2007-08-15 |
| 公开(公告)号: | CN101131318A | 公开(公告)日: | 2008-02-27 |
| 发明(设计)人: | 山口真二;堀江正浩 | 申请(专利权)人: | 大日本网目版制造株式会社 |
| 主分类号: | G01B11/22 | 分类号: | G01B11/22 |
| 代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 徐恕 |
| 地址: | 日本京都*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 一种沟槽图案的深度的测定方法和测定装置,把在测定区域(93)形成有沿给定沟槽方向延伸的沟槽图案的基板(9)保持在保持部(21)上;光照明部(3)对基板(9)的测定区域(93)照射照明光,分光器(5)的衍射光栅(52)把来自测定区域(93)的照明光的反射光分光,从而取得测定分光反射率。此时在沟槽形状测定装置(1)中,以使对应于衍射光栅(52)的光栅方向的基板(9)上的方向与沟槽方向45度的状态来配置衍射光栅(52),所以即使在因沟槽图案的影响而限定了来自基板(9)的反射光的振动方向的情况下,也不会受反射光的偏振光的影响而能正确地求得测定区域(93)的分光反射率,并能高精度地求出沟槽图案的深度。 | ||
| 搜索关键词: | 沟槽 图案 深度 测定 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.一种沟槽图案的深度的测定方法,该沟槽图案形成在基板上,其特征在于,包括如下步骤:a步骤:对在测定区域形成有沿给定方向延伸的沟槽图案的基板照射照明光;b步骤:把对来自所述基板的所述照明光的反射光进行引导的衍射光栅,以与所述衍射光栅的光栅方向对应的所述基板上的方向和所述给定方向所成的角度为40度以上50度以下的状态进行配置,所述衍射光栅接受所述反射光并将其分光;c步骤:检测器接受由所述b步骤分光后的光并取得所述测定区域的测定分光反射率;d步骤:将至少把所述沟槽图案的深度和所述沟槽图案的底面的面积率作为参数进行运算所求得的理论分光反射率与所述测定分光反射率进行比较,由此确定所述参数的值。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大日本网目版制造株式会社,未经大日本网目版制造株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710140995.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:浮法硅晶片的制作工艺和设备
- 下一篇:应用复合酶对黄麻进行脱胶的方法





