[发明专利]高真空电子束热处理装置无效

专利信息
申请号: 200710135535.X 申请日: 2007-11-13
公开(公告)号: CN101157967A 公开(公告)日: 2008-04-09
发明(设计)人: 肖文进 申请(专利权)人: 吴江市天地人真空炉业有限公司
主分类号: C21D1/06 分类号: C21D1/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215200江苏省吴江市松陵*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明为电子束热处理领域。目前电子束强化与激光表面改性相比,电子束表面改性的最大优点是电子束的能量利用率更高,可以达到95%。激光由于在材料表面的反射率高达85%~95%,具有较低的能量利用率。高真空电子束热处理是在高真空的工作室内进行的。其工作室的压力可保持在1.33×10-1~1.33×10-4Pa范围内。高的真空度对电子束的物理性能和工件的热处理有很大的影响。
搜索关键词: 真空 电子束 热处理 装置
【主权项】:
1.工作室的压力可保持在1.33×10-1~1.33×10-4Pa范围内。高的真空度对电子束的物理性能和工件的热处理有很大的影响。为防止扩散泵油污染工作室,可采用离子镜,电子枪室与工作室道口设有隔离阀。
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