[发明专利]冷却式阳极无效
| 申请号： | 200710128459.X | 申请日： | 2007-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN101104921A | 公开（公告）日： | 2008-01-16 |
| 发明（设计）人： | 艾伦·卡－玲·劳;稻川·真;布劳德利·O·斯廷森;细川·昭弘 | 申请（专利权）人： | 应用材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐金国;梁挥 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种物理气相沉积(PVD)装置和PVD方法。延伸阳极通过在靶材和基板之间的处理空间可增加在基板上的沉积均匀性。阳极为在等离子体中激发的电子提供接地的路径，并可使在整个处理空间的等离子体内的电子均匀分布，而不是在腔室壁聚积。等离子体内电子的均匀分布可产生在基板上材料的均匀沉积。阳极可由冷却流体冷却以控制阳极的温度并减少剥落。阳极可越过垂直于磁电管长侧的处理空间设置，磁电管可在整个溅射靶材的后面在二维上扫描。扫描磁电管可减少阳极的局部加热。 | ||
| 搜索关键词： | 冷却 阳极 | ||
【主权项】：
1.一种物理气相沉积装置，包括：腔室主体，在其中具有处理空间；一个或多个靶材；基板支架；以及一个或多个阳极，其设置在所述一个或多个靶材和所述基板支架之间，所述一个或多个阳极每个都包含内壁和外壁，其中所述内壁限定在与所述内壁接触时流过冷却流体的流体流径。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应用材料股份有限公司，未经应用材料股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200710128459.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：成膜装置及成膜方法
- 下一篇：周边单元,图像形成装置和采用它们的图像形成系统
- 同类专利
- 专利分类
