[发明专利]处理液供给装置有效
| 申请号： | 200710111184.9 | 申请日： | 2007-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN101092957A | 公开（公告）日： | 2007-12-26 |
| 发明（设计）人： | 岛井太 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | F04B49/08 | 分类号： | F04B49/08;C02F1/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 雒运朴;徐谦 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种处理液供给装置，可以降低初始超程量，并且在边对基板大量处理时的显影液进行再利用边对基板进行大量处理时仍可以确保稳定的分配特性。本发明的处理液供给装置，通过在喷嘴附近设置带有累计功能的流量计，并对应流量计的变化，控制伺服马达而反馈到泵转速的控制中，因此可以持续地排出一定量而不管过滤器的网眼堵塞的情况，可使显影液在被抗蚀剂涂层的膜上，从必须的最低限(膜厚1mm)到表面张力最大值(3mm)的可涂敷区域内形成稳定的分配。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 供给 装置 | ||
【主权项】：
1.一种处理液供给装置，具有处理液储存罐、供给处理液的泵和排出处理液的喷嘴，其特征在于：该处理液供给装置具备流量计，该流量计为了量化来自所述喷嘴的处理液的排出量，在实行分配的开始/结束时，可进行自开始初始排出时起累计所排出的处理液的排出量的流量累计，并且该流量计还具有根据从喷嘴排出的量可使泵的转速改变的反馈系统。
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