[发明专利]在盘上形成区的方法、缺陷管理方法及记录/再现设备有效

专利信息
申请号: 200710104856.3 申请日: 2003-08-11
公开(公告)号: CN101064157A 公开(公告)日: 2007-10-31
发明(设计)人: 高祯完;李坰根 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: G11B20/10 分类号: G11B20/10
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 代理人: 郭鸿禧;韩素云
地址: 韩国京畿道*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种具有临时缺陷管理信息区域和缺陷管理区域的盘,包括:缺陷管理区域,位于引入区域、引出区域和外部区域中的至少一个中;临时缺陷信息区域,形成于数据区域中,并且在其中记录临时缺陷信息;和临时缺陷管理信息区域,位于引入区域和引出区域中的至少一个中。因此,可以将用户数据记录在可记录盘尤其是一次写入盘,同时对其执行缺陷管理,从而实现具有有限记录容量的缺陷管理区域的有效使用。
搜索关键词: 形成 方法 缺陷 管理 记录 再现 设备
【主权项】:
1、一种在用于记录和/或再现设备的盘上形成多个区的方法,所述方法包括:在盘的引入区域和引出区域中的至少一个中形成缺陷管理区域,所述缺陷管理区包括由记录和/或再现设备使用的缺陷管理信息;形成盘的数据区域,用于在其中记录数据;在数据区域中形成临时缺陷信息区域,所述临时缺陷信息区域包括关于在数据区域中记录的数据的临时缺陷信息;和在引入区域和引出区域中的至少一个中形成临时缺陷管理信息区域,所述临时缺陷信息管理区域包括由记录和/或再现设备使用用于管理临时缺陷信息的临时缺陷管理信息,其中,缺陷管理区域的缺陷管理信息包括:最后记录在临时缺陷信息区域中的最后记录的临时缺陷管理信息、和最后记录在临时缺陷管理信息区域中的最后记录的临时缺陷管理信息。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710104856.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top