[发明专利]投影式光刻机无效
| 申请号： | 200710094426.8 | 申请日： | 2007-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN101458453A | 公开（公告）日： | 2009-06-17 |
| 发明（设计）人： | 陈福成;朱骏 | 申请（专利权）人： | 上海华虹NEC电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丁纪铁 |
| 地址： | 201206上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种投影式光刻机，其光学系统包括光源、掩膜版平面、透镜组，在光源和掩膜版平面之间还包括一个滤波片组，该滤波片组上包括多个滤波片，从光源出射的光线经过滤波片组中的一个滤波片照射到掩膜版上，并通过透镜组最后投射到硅片平面上。本发明在光刻机的光源和掩膜版之间加入滤波片组，从而达到在一台光刻机上进行不同波长的光刻。当滤波片组设置在圆盘上时，不仅转动圆盘就改变光刻机的工作波长，而且能减少由于滤波片倾斜等问题引起光束能量的分布不均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 投影 光刻 | ||
【主权项】：
1. 一种投影式光刻机，其光学系统包括光源、掩膜版平面、透镜组，其特征在于，在光源和掩膜版平面之间还包括一个滤波片组，该滤波片组上包括多个滤波片，从光源出射的光线经过滤波片组中的一个滤波片照射到掩膜版上，并通过透镜组最后投射到硅片平面上。
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