[发明专利]基板处理装置

摘要

本发明涉及一种基板处理装置，在该基板处理装置的浓度测量部中，通过混合样品气体和氮气而对样品气体稀释，从而对稀释后的样品气体中所包含的IPA气体的浓度进行测量。并且，将所测量的浓度值(C1)和基于样品气体以及稀释气体的流量所得到的稀释率的倒数(1/P)相乘，而将稀释前的样品气体所包含的IPA气体的浓度(C0)设为C0＝C1×(1/P)而计算出。因此，即使在使用高浓度的IPA气体的情况下，也能够正确测量出IPA气体的浓度。

主权项

1.一种基板处理装置，其通过处理气体对基板进行处理，其特征在于，具有：处理室，其在内部容纳基板；处理气体供给部，其将处理气体和载气一起供给到所述处理室；提取部，其提取所述处理室内的气体的一部分作为样品气体；稀释气体供给部，其供给用于稀释样品气体的稀释气体；稀释部，其混合由所述提取部所提取的样品气体和由所述稀释气体供给部所供给的稀释气体，而对样品气体进行稀释；浓度计，其对由所述稀释部所稀释的样品气体中所包含的处理气体的浓度进行测量；第一流量计，其对自所述提取部至所述稀释部的配管内流动的稀释前的样品气体的流量进行测量，或者对自所述稀释部开始的配管内流动的稀释后的样品气体的流量进行测量；第二流量计，其对自所述稀释气体供给部至所述稀释部的配管内流动的稀释气体的流量进行测量；计算部，其基于所述浓度计、所述第一流量计以及所述第二流量计的各测量值，计算出稀释前的样品气体中所包含的处理气体的浓度。