[发明专利]光刻装置及器件制造方法有效
| 申请号： | 200710091861.5 | 申请日： | 2007-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN101046640A | 公开（公告）日： | 2007-10-03 |
| 发明（设计）人： | N·R·科珀;S·N·L·唐德斯;J·J·奥坦斯;J·C·范德霍文;E·C·卡迪克;S·舒勒波 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 范晓斌;刘华联 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 记载了光刻投影装置中的排放装置的各个实施例，这些实施例例如具有一特征，当在排放装置中不存在液体时该特征可减小流入排放装置的气体。在一个示例中，提供一被动型液体去除装置，使得该排放装置中的气体压力等于环境气体压力，在另一个实施例中，提供一挡板以在不需要去除液体时封闭该腔室。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，包括：基底台，用于保持基底；液体供给系统，用于向该基底台上的对象与投影系统之间的空间提供液体；和位于基底台中的排放装置，用于容纳在使用时在该对象的边缘与该基底台之间泄漏的液体，其中，在使用时，该排放装置中的气体压力维持成与基底台上方的环境气体压力基本相同。
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