[发明专利]垂直磁记录头中用于二次杂散场减小的两梯级角凹陷无效
| 申请号: | 200710091431.3 | 申请日: | 2007-03-28 |
| 公开(公告)号: | CN101046973A | 公开(公告)日: | 2007-10-03 |
| 发明(设计)人: | 萧文千;徐一民;江明;弗拉迪米尔·尼基廷 | 申请(专利权)人: | 日立环球储存科技荷兰有限公司 |
| 主分类号: | G11B5/39 | 分类号: | G11B5/39;G11B5/60 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 张波 |
| 地址: | 荷兰阿*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明涉及一种用于在磁头中使用的磁结构,用于避免杂散场写入。该磁结构可以是例如磁屏蔽件或可以是写头的磁极,并尤其有利于用在垂直记录系统中,因为这些垂直记录系统特别易受杂散场写入影响。所述磁结构包括向前突出部分,向头的气垫面(ABS)延伸,并包括从向前突出部分横向延伸的第一和第二翼部分。翼部分每个具有恒定凹进的内部分和楔形的外部分。每个翼的恒定凹进的内部分防止杂散场写入,同时还防止磁饱和,向外横向延伸时渐缩远离ABS的楔形的外部分通过从ABS移开屏蔽件的外角进一步防止杂散场写入。 | ||
| 搜索关键词: | 垂直 记录 用于 二次 散场 减小 梯级 凹陷 | ||
【主权项】:
1.一种用于在具有气垫面ABS的磁记录头中使用的磁结构,该磁结构包括:居中设置的向前突出部分,朝向所述ABS延伸并终止于横向相对的第一和第二侧面;以及横向延伸的第一和第二翼部分,从所述居中设置的向前突出部分的所述第一和第二侧面向外横向延伸;所述第一和第二翼部分每个具有内部分和外部分,每个翼的所述内部分设置在所述翼的所述外部分与所述结构的所述居中设置的向前突出部分之间;每个翼的所述内部分具有朝向所述ABS设置的前边缘,其从所述ABS凹进基本恒定的凹进距离;每个翼的所述外部分具有朝向所述ABS设置的楔形前边缘,其从所述ABS凹进一凹进距离,该凹进距离随着距该结构的中心增大的距离而增大。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日立环球储存科技荷兰有限公司,未经日立环球储存科技荷兰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710091431.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。





