[发明专利]像素结构的制作方法

摘要

本发明提供一种像素结构的制作方法，该方法包括下列步骤：首先，提供一已形成有一主动组件的基板。接着，形成一图案化保护层于基板与主动组件上，图案化保护层暴露出部分的主动组件。继之，形成一导电层覆盖该图案化保护层，且导电层电性连接至主动组件。接着，提供一掩膜于导电层上方，且掩膜暴露出部分的导电层，再使用激光经由掩膜照射导电层，以移除掩膜所暴露的部分导电层，而剩余的导电层构成一像素电极且电性连接至该主动组件。此制作方法较为简单因而降低制作成本。

主权项

1.一种像素结构的制作方法，其特征是，该像素结构的制作方法包括：提供一基板，且该基板上已形成有一主动组件；形成一图案化保护层于该基板与该主动组件上，其中该图案化保护层暴露出部分的主动组件；形成一导电层于该图案化保护层上；提供一掩膜于该导电层上方，且该掩膜暴露出部分的导电层；以及使用激光经由该掩膜照射该导电层，以移除该掩膜所暴露的部分导电层，而剩余的该导电层构成一像素电极，其中该像素电极连接至所述的主动组件。