[发明专利]光刻装置和器件制造方法无效
| 申请号： | 200710087811.X | 申请日： | 2007-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN101042541A | 公开（公告）日： | 2007-09-26 |
| 发明（设计）人： | J·P·H·本肖普;H·巴特勒;N·R·肯帕;B·H·科克;F·范德穆伦;H·K·范德舒特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 范晓斌;刘华联 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开了一种光刻投影装置，其中在基底交换过程中利用遮蔽构件来遮挡该液体供给系统，从而在基底交换过程中确保液体与投影系统的一元件保持接触。该遮蔽构件与支撑投影系统的计量框架连接。通过这种方式，遮蔽构件的位置总是已知的。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投影装置，包括：投影系统，用于将图案从构图部件投影到基底上；液体供给系统，用于将液体供给在该投影系统的元件与该基底之间的空间内；计量框架，用于支撑该投影系统，该计量框架安装至支撑所述装置的基座框架并与该基座框架在动力学上隔离开；遮蔽构件，基本上可定位成当将该基底从投影系统下方移走时确保该液体保持与所述元件接触；和致动器，用于定位该遮蔽构件，该致动器连接在该计量框架与该遮蔽构件之间。
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