[发明专利]半导体器件有效

专利信息
申请号: 200710085810.1 申请日: 2002-02-28
公开(公告)号: CN101026172A 公开(公告)日: 2007-08-29
发明(设计)人: 山崎舜平;须泽英臣;楠山义弘;小野幸治;小山润 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L23/522;H01L21/82;H01L21/768;G02F1/1362
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 梁永
地址: 日本神奈*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供一种半导体器件的结构及其制造方法,其中即使在显示部分的尺寸增加到大尺寸荧光屏的情况下也能实现低功耗。象素部分中的栅极形成为主要含有W的材料膜、主要含有Al的材料膜、和主要含有Ti的材料膜的三层结构,以便降低布线电阻。采用IPC刻蚀装置刻蚀布线。栅极具有锥形,并且成为锥形的区域的宽度设定为1μm或以上。
搜索关键词: 半导体器件
【主权项】:
1、一种包括多个薄膜晶体管的半导体器件,每个薄膜晶体管包括:形成在绝缘表面上的半导体层;形成在半导体层上的绝缘膜;形成在绝缘膜上的栅电极;和形成在绝缘膜上的源布线;其中所述源布线包括第一薄膜和形成在第一薄膜上的第二薄膜以及形成在第二薄膜上的第三薄膜的叠层结构;其中所述第一薄膜包括选自Ta、W、Ti、Al、Cu和Mo中的至少一个;和所述源布线包括锥形部分。
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