[发明专利]用于增强的光刻图案化的方法和系统

摘要

一种利用碳基硬掩模的双图案化系统和工艺。该双图案化系统提供在单硬掩模蚀刻步骤中形成具有比在基于单曝光的硬掩模中可印刷的最小间隔小的特征间隔的硬掩模特征的装置。

主权项

1.一种用于图案转移的方法，包括：朝着提供在基板上的硬掩模层提供图案化的辐射束，将硬掩模层的第一部分暴露到来自图案化的辐射束的第一剂量的辐射，第一剂量足以增强第一部分的蚀刻特征；将与硬掩模层的第一部分不同的第二部分暴露到来自图案化的辐射束的第二剂量的辐射，第二剂量足以增强第二部分的蚀刻特征；和对硬掩模层进行蚀刻处理，其中基本移除了第一和第二部分，并且其中除了第一和第二部分之外的硬掩模层的部分基本完整。