[发明专利]用于制造单晶或多晶材料、尤其是多晶硅的装置和方法无效

专利信息
申请号: 200710079489.6 申请日: 2007-04-11
公开(公告)号: CN101074488A 公开(公告)日: 2007-11-21
发明(设计)人: 马蒂亚斯·米勒;马库斯·芬克拜纳;乌韦·萨赫尔;英戈·施维利希;迈克尔·克劳斯 申请(专利权)人: 史考特公司
主分类号: C30B11/00 分类号: C30B11/00;C30B29/06;C30B35/00
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 代理人: 王允方;刘国伟
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及一种使用垂直梯度凝固法制造单晶或多晶材料、尤其是用于光伏应用的硅的装置和方法。根据本发明实现少量的损耗,这是因为坩埚的横截面为多边形、尤其是长方形或正方形。在坩埚圆周四周安置扁平或平面的加热元件、尤其是夹套加热器,其产生不均匀的温度分布。这与坩埚中心所形成的温度梯度相对应。所述扁平加热元件的热输出从坩埚顶端到底端降低。所述扁平加热元件包含多个平行的加热辐板,所述辐板在垂直或水平蜿蜒路径上延伸。通过改变导体横截面来设定来自所述辐板的热输出。为避免坩埚角落区域中的局部过热,在所述辐板的蜿蜒路径的倒转区处设置横截面的收缩。所述扁平加热元件可由多个互连的个别区段形成。
搜索关键词: 用于 制造 多晶 材料 尤其是 装置 方法
【主权项】:
1.一种用于使用垂直梯度凝固法(VGF方法)制造单晶或多晶材料的装置,其包含具有底端和顶端的固定坩埚(2、4),如果在纵向上看,那么所述固定坩埚具有多边形横截面,和用于熔化硅的加热装置(5-7),其中所述装置经配置以在所述坩埚(2、4)中形成纵向上的温度梯度,且所述加热装置包含扁平加热元件(7)以抑制垂直于纵向的热流,所述扁平加热元件是安置在所述坩埚(2、4)四周且包含多个安置在所述坩埚(2、4)的侧面上的加热元件(10-13),所述加热元件在纵向上或与其垂直地具有蜿蜒路径,其特征在于:在所述坩埚(2、4)的角落区域中的所述蜿蜒路径的倒转区(15-17)中,所述扁平加热元件(7)的热输出较高或者坩埚壁与所述扁平加热元件之间的距离较小。
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