[发明专利]光盘、光盘制造方法和光盘再现方法无效

专利信息
申请号: 200710079461.2 申请日: 2007-03-28
公开(公告)号: CN101047002A 公开(公告)日: 2007-10-03
发明(设计)人: 大寺泰章;山本亮介;吉田展久;中村直正 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: G11B7/24 分类号: G11B7/24;G11B7/245;G11B7/26
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 代理人: 陈源;张天舒
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 公开了一种光盘、光盘制造方法和光盘再现方法。根据一个实施例的光盘包括:光敏聚合物层(24),包括通过凹坑形成的记录图案(3);和在所述光敏聚合物层(24)上形成的反射膜(25)。所述凹坑的深度方向与形成所述反射膜(25)的方向相反。
搜索关键词: 光盘 制造 方法 再现
【主权项】:
1.一种光盘,其特征在于包括:光敏聚合物层,包括由凹坑形成的记录图案;和反射膜,其形成在所述光敏聚合物层上,其中所述凹坑的深度方向与形成所述反射膜的方向相反。
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