[发明专利]一种过剩光载流子频谱分析仪无效
| 申请号： | 200710049540.9 | 申请日： | 2007-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN101109777A | 公开（公告）日： | 2008-01-23 |
| 发明（设计）人： | 高椿明;王亚非;毕艳芳;周鹰;杨立峰 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | G01R23/16 | 分类号： | G01R23/16;G01R23/17;G02B27/12 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610054四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种过剩光载流子频谱分析仪，其特征在于：A.包括从左至右顺次排列的检测光光源、光束整形器、硅片、凸透镜、光电探测器阵列、扫描驱动器、振镜和激发光光源；B.检测光光源、光束整形器、硅片、凸透镜和光探测器阵列设置在同一光轴上，所述激发光光源经振镜的反射光入射到所述硅片上，该入射光与检测光光源经过光束整形器的扁平光束在同一平面内，所述扫面驱动器与振镜连接并驱动振镜周期性转动，待检测的射频信号加到偏电压上来调制所述激发光光源；C.所述激发光光源的光子能量大于硅片的禁带宽度，所述检测光光源光子能量小于硅片的禁带宽度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 过剩 载流子 频谱 分析 | ||
【主权项】：
1.一种过剩光载流子频谱分析仪，其特征在于：A、包括从左至右顺次排列的检测光光源、光束整形器、硅片、凸透镜、光电探测器阵列、扫描驱动器、振镜和激发光光源；B、检测光光源、光束整形器、硅片、凸透镜和光探测器阵列设置在同一光轴上，所述激发光光源经振镜的反射光入射到所述硅片上，该入射光与检测光光源经过光束整形器的扁平光束在同一平面内，所述扫面驱动器与振镜连接并驱动振镜周期性转动，待检测的射频信号加到偏电压上来调制所述激发光光源；C、所述激发光光源的光子能量大于硅片的禁带宽度，所述检测光光源光子能量小于硅片的禁带宽度。
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