[发明专利]一种新型核孔膜无效
| 申请号： | 200710045707.4 | 申请日： | 2007-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN101380547A | 公开（公告）日： | 2009-03-11 |
| 发明（设计）人： | 毕明光;殷伟军;殷小淞 | 申请（专利权）人： | 毕明光 |
| 主分类号： | B01D69/00 | 分类号： | B01D69/00;B01D67/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200124上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种新型的核孔膜，或称核径迹膜，一般核径迹经蚀刻总是有锥度，核孔膜的微孔单锥或双锥，双锥的微孔中间孔径比膜两表面的孔径小。过滤时容易使微粒卡死在微孔中，膜易堵塞。同时利用质量数较低的离子辐照电解质薄膜，由于核径迹蚀刻灵敏度较低，锥度较大，难以制造小孔径的核孔膜。本发明制造的核孔膜，其微孔的中间孔径比膜两表面的直径大或呈园柱形毛细管状。这种微孔的形状使大于膜表面孔径的粒子被截留在膜表面，核孔膜不易堵塞。同时为利用质量数较低的离子制造核孔膜提供了一个新的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 新型 核孔膜 | ||
【主权项】：
1，一种核孔膜或称核径迹膜，其特征是核孔膜微孔的中间孔径比膜两表面的孔径大。
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