[发明专利]硫化镉量子线的制备方法无效
申请号: | 200710044108.0 | 申请日: | 2007-07-23 |
公开(公告)号: | CN101109108A | 公开(公告)日: | 2008-01-23 |
发明(设计)人: | 侯士丽;茅惠兵;王基庆;朱自强;俞建国 | 申请(专利权)人: | 华东师范大学 |
主分类号: | C30B29/50 | 分类号: | C30B29/50;C30B29/62 |
代理公司: | 上海德昭知识产权代理有限公司 | 代理人: | 程宗德;石昭 |
地址: | 200062*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种硫化镉量子线的制备方法,确切说,一种用模板法制备硫化镉量子线的方法,属于纳米材料制备的技术领域。以含有微孔阵列的氧化铝作模板,微孔的直径和孔深分别为8~20nm和2~3μm,用直流电沉积技术在微孔阵列内制得尺寸可调的硫化镉量子线。该制备方法可有效地控制硫化镉量子线的尺寸,使其具有量子限制效应,而且还可由量子限制效应调节禁带宽度,使硫化镉的吸收系数比体材料更大;该制备方法有序地分布在含微孔阵列的氧化铝模板中,量子线之间互相分离,并能被精确定位。该制备方法特别适于用来制备硫化镉量子线。 | ||
搜索关键词: | 硫化 量子 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种硫化镉量子线的制备方法,其特征在于,具体操作步骤:第一步取一纯度为99.99%以上的铝片,对其进行表面清洁处理:将铝片置于有机溶剂中进行超声清洗,干燥,置于氮气气氛中,500~630℃下退火4~6小时,置于体积比为1∶4的高氯酸和乙醇的混合溶液中进行电化学抛光,抛光温度为5~10℃,抛光时间为20~40秒,用稀盐酸溶液和稀氢氧化钠溶液清洗铝片表面,稀盐酸溶液的浓度为5%,稀氢氧化钠溶液的浓度为0.2mol/L;第二步将经第一步处理的铝片置于浓度为12~15wt%的硫酸溶液中,-6~0℃和270~350转/分的磁力搅拌下,进行阳极氧化,阳极氧化所用的阴极和阳极分别是铂片和所述的铝片,氧化电压为19~22伏,氧化时间为3~8个小时,得含有微孔阵列的氧化铝纳米模板,微孔的孔径和孔深分别为8~10nm和2~3μm;第三步将第二步制得的氧化铝纳米模板置于浓度为5%的磷酸溶液中进行扩孔,温度为30℃,扩孔时间为15~30分钟,微孔的孔径扩大至10~20nm;第四步室温下,配置含有0.055mol/L镉源和0.19mol/L硫源的二甲基亚砜(DMSO)溶液,镉源和硫源分别为氯化镉和硫粉;第五步100~140℃下,进行直流电沉积,直流电沉积电压为10V,将第三步制得的氧化铝模板置于无水乙醇中清洗,取出作阴极,铂片作阳极,沉积时间为10~20分钟,取出,依次用二甲基亚砜溶液、丙酮和去离子水洗净,室温下自然干燥,在所述的氧化铝模板的微孔中制得硫化镉量子线。
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