[发明专利]一种全折射浸液式投影光学系统、装置及其应用有效
| 申请号： | 200710043869.4 | 申请日： | 2007-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN101101449A | 公开（公告）日： | 2008-01-09 |
| 发明（设计）人： | 蔡燕民 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B13/24;G02B9/34;G02B13/18;G02B1/04 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种全折射浸液式投影光学系统、装置及其应用，用于将所述光学系统物平面内的图形成像到所述光学系统像平面内。所述投影光学系统沿其光轴方向包括四个镜组，第一和第三镜组具有负光焦度、第二和第四镜组具有正光焦度；孔径光阑位置设置于第三镜组和第四镜组之间；在最靠近像面的透镜表面和像面之间充满了高折射率的液体介质；且最靠近物面的透镜的入射表面和最靠近像面透镜的出射表面之间的各个透镜之间充满气体介质。本发明不仅实现了大于1.0的数值孔径、高分辨率和较好的成像质量，而且增大了物方工作距，有效地降低了制造成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 折射 浸液 投影 光学系统 装置 及其 应用 | ||
【主权项】：
1、一种全折射浸液式投影光学系统，从物面沿其光轴方向包括四个镜组，其特征在于：第一镜组(G1)和第三镜组(G3)具有负光焦度，第二镜组(G2)和第四镜组(G4)具有正光焦度，孔径光阑位置设置于第三镜组(G3)和第四镜组(G4)之间，在第一镜组(G1)的最靠近物面透镜的入射表面和在第四镜组(G4)的最靠近像面透镜的出射表面之间的各个透镜之间充满气体介质，在第四镜组(G4)的最靠近像面透镜的出射表面和像面之间充满一种高折射率的液体介质。
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