[发明专利]印刷镭射电镀膜及其加工工艺无效
| 申请号： | 200710036126.4 | 申请日： | 2007-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN101434168A | 公开（公告）日： | 2009-05-20 |
| 发明（设计）人： | 李光华 | 申请（专利权）人： | 李光华 |
| 主分类号： | B44C1/165 | 分类号： | B44C1/165;B41M5/00;B41M3/00;B41M1/30;B41M7/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 413200湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种粘附到产品上的具有印刷图案、激光镭射和电镀相结合的膜及其加工工艺，其特征在于印刷镭射电镀膜包含基材、图案印刷层、激光镭射层及真空电镀层，图案印刷层、激光镭射层和真空电镀层依次叠加在基材上；基材可采用聚脂薄膜，基材或可采用简称为PET和BOPP的聚脂薄膜；其加工艺是：第一步是基材的离型处理，可全部离型或部分离型；第二步是进行图案的印刷，印刷材料可采用染料或油墨，印刷时，需进行颜料的单色或多色对版处理；第三步是进行涂布处理；第四步是进行全信息激光压印镭射；第五步是真空电镀；第六步是背胶处理；第七步是烘干处理；采用以上技术方案后，印刷、镭射及电镀三种工艺巧妙地结合，使该膜图案更逼真，变化更丰富，颜色更多彩，达到了单独工艺或两种工艺所无法达到的效果，使产品的品质得到了更进一步的提升。 | ||
| 搜索关键词： | 印刷 镭射 镀膜 及其 加工 工艺 | ||
【主权项】：
1、印刷镭射电镀膜，其特征在于其包含基材、图案印刷层、激光镭射层及真空电镀层，图案印刷层、激光镭射层和真空电镀层依次叠加在基材上。
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