[发明专利]非接触式镭射刻字制程及其设备无效

专利信息
申请号: 200710007600.0 申请日: 2007-02-08
公开(公告)号: CN101241834A 公开(公告)日: 2008-08-13
发明(设计)人: 黄宗健;田家宏;李训敏 申请(专利权)人: 敦南科技股份有限公司
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;B41M5/24
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 逯长明
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种非接触式镭射刻字制程及其设备,透过寻边对位模块的对位导正,使晶圆片的中心点精确地对位导正于寻边对位模块,并透过寻边对位模块的寻边转动及传输机构模块的光感测,使传输机构模块准确截取该晶圆片的中心点,并且透过光传感器的补偿以定位特定切边位置。由此,透过传输机构模块及镭射雕刻单元的配合,使被雕刻的晶圆片外径是否大小不一,皆能精确在晶圆片的特定切边位置进行镭射雕刻,使每一个晶圆片在特定切边位置产生一特定编号,方便生产及运输晶圆片时能有效进行追踪管理、数量统计及质量控管,由此提高晶圆片质量良率的有效控管及统计。
搜索关键词: 接触 镭射 刻字 及其 设备
【主权项】:
1. 一种非接触式镭射刻字制程,用于在每一个晶圆片上以镭射来雕刻出一特定的编号,以通过每一个晶圆片的特定编号,以方便在生产、运输晶圆片时的追踪管理、数量统计及质量控管,其特征在于,该制程包括下列步骤:(a)、通过一进料站单元,以进行该晶圆片装载运输;(b)、通过一对位单元,以将该进料站单元所装载的晶圆片,进行取料及中心对位导正;(c)、通过一传输单元,并且配合该对位单元,以进行晶圆片的寻边对位及切边位补偿,并且承接该晶圆片以进行传送运输;(d)、通过一镭射雕刻单元,并且配合该传输单元的传送运输,在该晶圆片的一预定切边位置进行镭射雕刻,使得该晶圆片具有一特定编号;以及(e)、通过一出料站单元,并且配合该传输单元,以对该具有特定编号的晶圆片进行卸除运输。
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