[发明专利]形成掩模坯板用抗蚀剂下层的膜的组合物、掩模坯板和掩模

摘要

本发明的课题在于提供在掩模坯板和掩模的制作工艺中使用的形成抗蚀剂下层的膜的组合物，并且提供使用该组合物制作的掩模坯板和掩模。本发明通过提供下述组合物解决了上述课题，即，一种形成抗蚀剂下层的膜的组合物，是在基板上按照形成转印图案的薄膜和化学放大型抗蚀剂膜的顺序形成这些膜而成的掩模坯板中，为了在该形成转印图案的薄膜和该抗蚀剂膜之间形成抗蚀剂下层的膜而使用的，含有具有含卤原子的重复单元结构的高分子化合物和溶剂的形成抗蚀剂下层的膜的组合物。上述高分子化合物含有至少10质量％的卤原子。

主权项

1.一种形成抗蚀剂下层的膜的组合物，是用于形成下述掩模坯板中所使用的抗蚀剂下层的膜的组合物，含有具有含卤原子的重复单元结构的高分子化合物和溶剂，所述掩模坯板是在基板上按照形成转印图案的薄膜、抗蚀剂下层的膜和化学放大型抗蚀剂膜的顺序形成这些膜而成的。