[发明专利]非易失性半导体存储器件无效
| 申请号: | 200710004446.1 | 申请日: | 2007-01-23 |
| 公开(公告)号: | CN101009290A | 公开(公告)日: | 2007-08-01 |
| 发明(设计)人: | 野口充宏 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
| 主分类号: | H01L27/115 | 分类号: | H01L27/115;H01L23/522 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王以平 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 一种包含多个NAND串的非易失性半导体存储器件,每一个NAND串包括把多个非易失性存储单元串联连接的存储单元模块、与数据传输线接触相连接的第1选择栅晶体管、和与源线接触相连接的第2选择栅晶体管。相邻的数据传输线接触之间的元件隔离绝缘膜上表面高度高于第1选择栅晶体管和数据传输线接触之间的元件区域中的半导体衬底的主表面高度。或相邻的源线接触之间的元件隔离绝缘膜上表面的高度高于第2选择栅晶体管与源线接触之间的元件区域中的半导体衬底的主表面的高度。 | ||
| 搜索关键词: | 非易失性 半导体 存储 器件 | ||
【主权项】:
1.一种非易失性半导体存储器件,包含多个并排配置的NAND串,上述各NAND串包括:把多个非易失性存储单元的电流通路串联连接的存储单元模块,其中每个存储单元包括,在由在半导体衬底上形成元件隔离区域的元件隔离绝缘膜所分隔的元件区域上、隔着第1绝缘膜而形成的浮栅电极,和在上述浮栅电极上、隔着第2绝缘膜以覆盖上述浮栅电极侧面和上表面的方式形成的控制栅电极;第1选择栅晶体管,该第1选择栅晶体管具有与上述浮栅电极相同电极材料的第1电极层和与上述控制栅电极相同电极材料的第2电极层、通过形成于与上述第2绝缘膜相同绝缘材料的第3绝缘膜的一部分上的第1开口部分、直接连接而形成的第1栅电极,其电流通路的一端连接到在上述存储单元模块中、串联连接的非易失性存储单元的电流通路的一端上,其电流通路的另一端通过数据传输线接触连接到数据传输线上;和第2选择栅晶体管,该第2选择栅晶体管具有与上述浮栅电极相同电极材料的第3电极层和与上述控制栅电极相同电极材料的第4电极层、通过形成于与上述第2绝缘膜相同绝缘材料的第4绝缘膜的一部分上的第2开口部分、直接连接而形成的第2栅电极,其电流通路的一端连接到在上述存储单元模块中、串联连接的非易失性存储单元的电流通路的另一端上,其电流通路的另一端通过源线接触连接到源线上;其中,分别包含在相邻的上述NAND串上的上述数据传输线接触之间的上述元件隔离绝缘膜的上表面高度,比上述第1选择栅晶体管的电流通路的另一端与上述数据传输线接触之间的元件区域内的上述半导体衬底的主表面高度高;或者,分别包含在相邻的上述NAND串上的上述源线接触之间的上述元件隔离绝缘膜的上表面高度,比上述第2选择栅晶体管的电流通路的另一端与上述源线接触之间的元件区域内的上述半导体衬底的主表面高度高。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝,未经株式会社东芝许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710004446.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种抗病促生长的药物预混剂及其应用
- 下一篇:高亮度匀光可调光斑投光装置
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





