[发明专利]薄膜晶体管基板及其制造方法,以及具有其的液晶显示器有效

专利信息
申请号: 200710003746.8 申请日: 2007-01-24
公开(公告)号: CN101009251A 公开(公告)日: 2007-08-01
发明(设计)人: 李钟赫 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L21/84 分类号: H01L21/84;H01L21/768;H01L27/12;H01L23/522;H01L29/786;G02F1/136
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 张波
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明提供一种薄膜晶体管基板和通过3片掩模工艺制造薄膜晶体管基板的方法,该方法包括:在基板上形成第一导电膜;利用第一光致抗蚀剂膜图案形成包括栅极电极的栅极线;在该基板的整个表面上顺序形成栅极绝缘膜、有源层、欧姆接触层、第二导电膜和保护膜;利用在预定区域具有不同厚度的第二光致抗蚀剂膜图案形成有源区和包括源极-漏极电极的数据线;利用该第二光致抗蚀剂图案通过暴露该有源层的沟道区和部分地暴露该源极-漏极电极来形成接触孔;在该基板的整个表面上形成第三导电膜;以及利用第三光致抗蚀剂膜图案形成像素电极。本发明还包括具有该薄膜晶体管基板的液晶显示器。
搜索关键词: 薄膜晶体管 及其 制造 方法 以及 具有 液晶显示器
【主权项】:
1.一种制造薄膜晶体管基板的方法,该方法包括:在基板上形成第一导电膜;利用第一光致抗蚀剂膜图案形成包括栅极电极的栅极线,该第一光致抗蚀剂膜图案通过其上形成有所需图案的第一掩模形成在该第一导电膜上;在该基板的整个表面上顺序形成栅极绝缘膜、有源层、欧姆接触层、第二导电膜和保护膜;利用第二光致抗蚀剂膜图案形成有源区和包括源极-漏极电极的数据线,该第二光致抗蚀剂膜图案通过其上形成有所需图案的第二掩模形成在该保护膜上,该第二光致抗蚀剂图案在各预定区域具有不同厚度;利用该第二光致抗蚀剂图案通过暴露该有源层的沟道区和部分地暴露该源极-漏极电极来形成接触孔;在该基板的整个表面上形成第三导电膜;以及利用第三光致抗蚀剂膜图案形成连接到该接触孔的像素电极,该第三光致抗蚀剂膜图案通过其上形成有所需图案的第三掩模形成在该第三导电膜上。
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