[发明专利]用于膜、垫和压模结构的系统、方法和装置有效
| 申请号： | 200710002166.7 | 申请日： | 2007-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN101000463A | 公开（公告）日： | 2007-07-18 |
| 发明（设计）人： | 吴才伟 | 申请（专利权）人： | 日立环球储存科技荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张波 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明提供一种纳米压印系统，包括图案化介质接触结构从而提供盘基板上目标压印区域上均匀的压印压力。该系统通过引入膜悬挂物、凝胶垫缓冲、以及气垫加载来利用盘基板的内径孔特性。该设计显著增大目标压印区域上的压力的均匀性。结果，实现了压印在记录盘基板上的图案的质量的简单且有效的改善。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 结构 系统 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种压印装置，包括：膜停止环，具有开口；膜，安装到该膜停止环，使得该膜跨过该膜停止环中的开口延伸且密封该开口；凝胶垫，安装到该膜，该凝胶垫具有包括轴向孔的盘状形状；压模，安装到该凝胶垫且具有包括轴向孔的盘状形状以及带压印特征的接触表面；以及中心块，安装到该膜且延伸穿过该凝胶垫和该压模的该轴向孔。
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