[发明专利]衬底对准装置以及使用该装置对准衬底的方法无效
申请号: | 200680054966.7 | 申请日: | 2006-11-06 |
公开(公告)号: | CN101461284A | 公开(公告)日: | 2009-06-17 |
发明(设计)人: | 李大帅;金彩雄;李庚旭;陆心万;金镇亨 | 申请(专利权)人: | 斗山MECATEC株式会社 |
主分类号: | H05B33/10 | 分类号: | H05B33/10 |
代理公司: | 北京北翔知识产权代理有限公司 | 代理人: | 杨 勇;郑建晖 |
地址: | 韩国庆*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本说明书公开了一种用于对准衬底的装置和方法。该装置包括:基准板,其具有形成于下表面的边缘的台阶;夹具,其能够贯穿基准板的该边缘升高和降低并具有弯曲的下端,以允许将衬底装载在其上;用于支持框架的掩模框架支持器,该框架具有连接到其上的金属掩模;对准板,其连接到掩模框架支持器并且能够升高和降低;以及精密对准机构,其用于精密地将衬底和金属掩模相互对准。可以将衬底的下垂量减少到常规装置的下垂量的1/5或更少的水平。该装置进一步包括穿过基准板的磁体,从而允许衬底和金属掩模相互形成紧密接触。 | ||
搜索关键词: | 衬底 对准 装置 以及 使用 方法 | ||
【主权项】:
1. 一种衬底对准装置,包括:基准板;夹具,其能够贯穿基准板的边缘升高和降低并且具有弯曲的下端,以允许将衬底装载在该弯曲的下端上;掩模框架支持器,用于支承一个框架,一个金属掩模连接到该框架;以及精密对准机构,其用于精密地将衬底和金属掩模相互对准。
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