[发明专利]离子发生装置无效
| 申请号： | 200680054739.4 | 申请日： | 2006-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN101449628A | 公开（公告）日： | 2009-06-03 |
| 发明（设计）人： | 五十岚司 | 申请（专利权）人： | 株式会社小金井 |
| 主分类号： | H05F3/06 | 分类号： | H05F3/06 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 | 代理人： | 周建秋;王凤桐 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种离子发生装置，能产生没有异物混入的清洁的离子化气体并涂布于被处理物上。在设置有由氧化钛形成的覆盖层(14)的受光体(11a)上照射来自紫外线发生源(15)的紫外线，将受光体(11a)的周围的空气电离成正的带电粒子和负的带电粒子。在具有电离了的空气的空间内通过电极(17)形成电场而将带电粒子离子化。通过鼓风机(20)将离子化了的带电粒子喷射到被处理物(W)上。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 发生 装置 | ||
【主权项】：
1、一种离子发生装置，其特征在于，该装置包括：紫外线发生源，该紫外线发生源对表面具有氧化钛等的金属氧化物半导体的受光体照射紫外线，将所述受光体的周围的气体电离成正的带电粒子和负的带电粒子；电极，该电极与电源连接，在具有电离了的气体的空间内形成电场，将所述带电粒子离子化；鼓风单元，该鼓风单元将离子喷射到被处理物上。
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