[发明专利]氮化物半导体发光元件无效
申请号: | 200680054727.1 | 申请日: | 2006-05-26 |
公开(公告)号: | CN101449393A | 公开(公告)日: | 2009-06-03 |
发明(设计)人: | 中原健;伊藤范和;堤一阳 | 申请(专利权)人: | 罗姆股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种氮化物半导体发光元件,根据与现有技术完全不同的着眼点而通过简单的方法来把从p型氮化物半导体层向活性层的载流子注入效率提高。在兰宝石基板(1)上层合缓冲层(2)、不掺杂的GaN层(3)、n型GaN接触层(4)、InGaN/GaN超晶格层(5)、活性层(6)、不掺杂的GaN类层(7)、p型GaN类接触层(8),在p型GaN类接触层(8)上形成p电极(9),在进行台面蚀刻而露出n型GaN接触层(4)的面上形成电极n电极(10)。在最靠近具有量子阱结构的活性层p侧的阱层与p型GaN类接触层(8)之间形成的中间半导体层的合计膜厚设定在20nm以下,能够提高载流子向活性层(6)的注入效率。 | ||
搜索关键词: | 氮化物 半导体 发光 元件 | ||
【主权项】:
1、一种氮化物半导体发光元件,具备由p型氮化物半导体层和n型氮化物半导体层把活性层夹住的结构,该活性层具有由阱层包含In的氮化物构成的量子阱结构,所述氮化物半导体发光元件特征在于,在所述活性层p侧最近位置配置的阱层与所述p型氮化物半导体层之间形成的中间半导体层的合计膜厚是20nm以下。
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