[发明专利]制备稳定的光致抗蚀剂组合物的方法无效
| 申请号： | 200680047409.2 | 申请日： | 2006-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN101331155A | 公开（公告）日： | 2008-12-24 |
| 发明（设计）人： | 威廉·理查德·拉塞尔;约翰·安东尼·舒茨 | 申请（专利权）人： | 杜邦电子聚合物公司 |
| 主分类号： | C08F6/02 | 分类号： | C08F6/02;C08F6/10;C08F6/12;G03F7/00;C08J3/00;C08G61/00;C08L65/00;C08L25/18 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 孟锐 |
| 地址： | 美国北卡*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种自含有痕量金属的聚合物溶液制造含有聚合物的稳定的光致抗蚀剂溶液的方法，所述方法包含以下步骤：(a)提供含有聚合物、第一溶剂及痕量金属的聚合物溶液；(b)使所述聚合物溶液通过酸性阳离子离子交换材料以移除其中的所述痕量金属并由此形成含有游离酸基团的聚合物溶液；(c)通过与所述聚合物在其中基本上不溶的第二溶剂接触，使所述聚合物从步骤b的所述聚合物溶液中沉淀；(d)对所述溶液及所述第二溶剂进行过滤，由此形成固体聚合物滤饼；(e)使所述来自步骤d的滤饼与足量额外的所述第二溶剂接触，以移除其中的游离酸基团；(f)添加相容性光致抗蚀剂溶剂到所述来自步骤e的固体聚合物滤饼中并将两者混合，以将所述聚合物溶解于所述光致抗蚀剂溶剂中并由此形成光致抗蚀剂溶液；及(g)移除所述含有所述聚合物的光致抗蚀剂溶液中的任何残留第一及第二溶剂以形成稳定的光致抗蚀剂溶液。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 稳定 光致抗蚀剂 组合 方法 | ||
【主权项】：
1、一种自含有痕量金属的聚合物溶液制造含有聚合物的稳定光致抗蚀剂溶液的方法，所述方法包含以下步骤：(a)提供含有聚合物、第一溶剂及痕量金属的聚合物溶液；(b)使所述聚合物溶液通过酸性阳离子离子交换材料以移除其中的所述痕量金属并由此形成含有游离酸基团的聚合物溶液；(c)通过与所述聚合物在其中基本上不溶的第二溶剂接触，使所述聚合物从步骤b的所述聚合物溶液中沉淀；(d)对所述溶液及所述第二溶剂进行过滤，由此形成固体聚合物滤饼；(e)使所述来自步骤d的滤饼与足量额外的所述第二溶剂接触，以移除其中的游离酸基团；(f)添加相容性光致抗蚀剂溶剂到所述来自步骤e的固体聚合物滤饼中并将两者混合，以将所述聚合物溶解于所述光致抗蚀剂溶剂中并由此形成光致抗蚀剂溶液；及(g)移除所述含有所述聚合物的光致抗蚀剂溶液中的任何残留第一及第二溶剂以形成稳定的光致抗蚀剂溶液。
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