[发明专利]通过反应共同蒸发的氧化物薄膜生长的高产量沉积系统有效
| 申请号: | 200680045224.8 | 申请日: | 2006-11-22 |
| 公开(公告)号: | CN101512041A | 公开(公告)日: | 2009-08-19 |
| 发明(设计)人: | 沃德·鲁比;库尔特·冯德松内克;布赖恩·默克利 | 申请(专利权)人: | 超导技术公司 |
| 主分类号: | C23C16/00 | 分类号: | C23C16/00;C23C16/40;C23C16/458;C23C16/46 |
| 代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 章社杲;吴贵明 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | 一种用于在容纳于衬底支撑件上的衬底上生长薄膜的加热器包括多个加热器元件。容纳衬底的衬底支撑件至少部分地由多个加热器元件包围。多个加热器元件中的至少两个相对于彼此可移动,以便为衬底支撑件提供外部通道。氧袋形成在一个加热器元件中或单独的氧袋元件上,并被用于薄膜在衬底上的氧化。 | ||
| 搜索关键词: | 通过 反应 共同 蒸发 氧化物 薄膜 生长 产量 沉积 系统 | ||
【主权项】:
1. 一种用于在容纳于衬底支撑件上的衬底上生长薄膜的加热器,所述加热器包括:多个加热器元件,其中,容纳衬底的所述衬底支撑件至少部分地被多个加热器元件包围,并且其中,所述多个加热器元件中的至少两个相对于彼此可移动,以便于为衬底支撑件提供外部通道。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





