[发明专利]一种生产超高纯水的方法和装置无效
| 申请号： | 200680043226.3 | 申请日： | 2006-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN101443276A | 公开（公告）日： | 2009-05-27 |
| 发明（设计）人： | N·威登 | 申请（专利权）人： | 液化空气电子美国有限公司 |
| 主分类号： | C02F1/00 | 分类号： | C02F1/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 吴 鹏;马江立 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及生产超高纯水，具体是用于浸没式光刻加工的超纯水的系统和方法。本发明一实施方式中，提供了可以持续提供超纯水以供应浸没式光刻设备的独立完整的使用点水箱(point-of-use cabinet)。本发明也涉及能为浸没式光刻设备提供具有预定折射率的材料的系统和方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 生产 超高 纯水 方法 装置 | ||
【主权项】：
1. 一种为浸没式光刻设备提供超纯水的系统，所述系统包括：与供水系统流体相通的预滤器；与预滤器流体相通的反渗透单元；与反渗透单元流体相通的去离子单元；与去离子单元流体相通的紫外线单元；与紫外线单元流体相通的过滤器；与过滤器流体相通的脱气装置；和与脱气装置流体相通的超滤器；其中超纯水从超滤器排出系统，可用于浸没式光刻设备。
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