[发明专利]用于井下光学流体分析仪的高压光学单元无效
| 申请号： | 200680041620.3 | 申请日： | 2006-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN101305160A | 公开（公告）日： | 2008-11-12 |
| 发明（设计）人： | 寺林彻;簗瀬刚 | 申请（专利权）人： | 普拉德研究及开发股份有限公司 |
| 主分类号： | E21B47/10 | 分类号： | E21B47/10;E21B49/10;G01N33/24;G01N33/28 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 肖鹂 |
| 地址： | 英属维尔京*** | 国省代码： | 维尔京群岛;VG |
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| 摘要： | 一种用于分析地下地层流体的装置，包括井下工具(10)、设置在井下工具内的流体分析模块(100)、穿过流体分析模块的地层流体流动路径(102)、设置在流体分析模块内的第一空腔(110)和第二空腔(112)、以及分别设置在流体分析模块的第一空腔和第二空腔内的第一窗(114)和第二窗(lie)。第一窗和第二窗每个都包括能够使高压流体隔离的抛光外密封表面。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 井下 光学 流体 分析 高压 单元 | ||
【主权项】：
1.一种用于分析地下地层流体的装置，包括：井下工具；设置在所述井下工具内的流体分析模块；穿过所述流体分析模块的地层流体流动路径；设置在所述流体分析模块内的第一空腔和第二空腔；分别设置在所述流体分析模块的第一空腔和第二空腔内的第一窗和第二窗，所述第一窗和第二窗中的每一个都包括抛光的外密封表面。
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