[发明专利]用于半导体工艺的泵装置无效
| 申请号： | 200680037262.9 | 申请日： | 2006-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN101501342A | 公开（公告）日： | 2009-08-05 |
| 发明（设计）人： | G·亨特利 | 申请（专利权）人： | 爱德华兹真空股份有限公司 |
| 主分类号： | F04D17/10 | 分类号： | F04D17/10;F04D17/12;F04D17/14;F04D29/42;F01D1/36 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 马 洪 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及用于半导体工艺中的泵装置。该装置可包括单个泵，所述泵构造成将物质流从约分子压力转换成约大气压力。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 半导体 工艺 装置 | ||
【主权项】：
1. 一种用于半导体工艺的装置，所述装置包括：单个泵，所述单个泵构造成将具有小于或等于约10-1毫巴的输入压力的物质流转换成大于或等于约100毫巴的输出压力。
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