[发明专利]形成有有机无机复合膜的物品无效
| 申请号： | 200680036829.0 | 申请日： | 2006-10-05 |
| 公开（公告）号： | CN101277815A | 公开（公告）日： | 2008-10-01 |
| 发明（设计）人： | 佐佐木辉幸;神谷和孝;井口一行 | 申请（专利权）人： | 日本板硝子株式会社 |
| 主分类号： | B32B9/00 | 分类号： | B32B9/00;C03C17/25;C03C17/32 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种形成有机械强度优良且含有有机物的二氧化硅系膜的物品。该物品包括基材、和形成于其表面的有机无机复合膜，该复合膜以二氧化硅为主成分，在将相对于膜面的X射线入射角固定成1°的X射线衍射中，将衍射角为3°～10°的峰的强度值用衍射角为20°～30°的晕样式峰的强度值进行标准化而得到的值为(0.19A+0.03)(A为膜厚[μm])以下，在傅里叶变换红外分光分析中，将归属于Si－OH基的950cm－1附近的峰的强度值用归属于Si－O－Si键的1100cm－1附近的峰的强度值进行标准化而得到的值为0.25以下。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 有机 无机 复合 物品 | ||
【主权项】：
1、一种形成有有机无机复合膜的物品，其包括基材、和形成于所述基材的表面上的含有有机物以及无机氧化物的有机无机复合膜，其中，所述有机无机复合膜含有二氧化硅作为所述无机氧化物，所述有机无机复合膜以所述二氧化硅为主成分，在将相对于所述有机无机复合膜的膜面的X射线入射角固定成1°的对所述有机无机复合膜进行的X射线衍射中，在使所述有机无机复合膜的膜厚为Aμm时，将衍射角为3°～10°的范围的峰的强度值用衍射角为20°～30°的晕样式峰的强度值进行标准化而得到的值为(0.19A+0.03)以下，在对所述有机无机复合膜进行傅里叶变换红外分光分析中，将归属于Si-OH基的950cm-1附近的峰的强度值用归属于Si-O-Si键的1100cm-1 附近的峰的强度值进行标准化而得到的值为0.25以下。
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