[发明专利]多次曝光光学成像设备无效

专利信息
申请号: 200680036661.3 申请日: 2006-09-25
公开(公告)号: CN101278549A 公开(公告)日: 2008-10-01
发明(设计)人: J·V·加特斯;C·J·努兹曼;S·保 申请(专利权)人: 卢森特技术有限公司
主分类号: H04N3/15 分类号: H04N3/15;H04N5/235
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 曾祥夌;魏军
地址: 美国新*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 用于存储对象的光学图像的设备包括具有多个像素的成像设备,各像素包括光传感器和耦合到传感器的多个存储单元。透镜系统把来自对象的光线聚焦到成像设备。在各像素中,存储单元的第一个配置成存储对应于它的传感器对来自对象的光线第一次曝光的数据,以及存储单元的第二个配置成存储对应于它的传感器对来自对象的光线第二次曝光的数据。在一个优选实施例中,像素设置在阵列中沿第一方向延伸,并且在第一与第二次曝光之间的时间间隔中,平移器配置成在第二方向产生成像设备与透镜系统的焦点之间的相对平移或偏移。在一个实施例中,第二方向穿过第一方向。在一个优选实施例中,各像素包括感光区域,并且使像素偏移某个距离,该距离近似等于在第二方向所测量的感光区域的间距的一半。这样,通过增加传感器的像素的有效数量而没有增加像素的实际数量,本发明提高空间分辨率。在本发明的备选实施例中,增强传感器的动态范围。
搜索关键词: 多次 曝光 光学 成像 设备
【主权项】:
1.一种用于存储对象的光学图像的设备,所述设备包括:成像设备,具有多个像素,各像素包括光传感器和耦合到所述传感器的多个存储单元,在各像素中,存储单元的第一个配置成存储对应于它的传感器的第一次曝光的数据,以及存储单元的第二个配置成存储对应于它的传感器的第二次曝光的数据。
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