[发明专利]用于从基片去除氟化聚合物的装置和方法无效

专利信息
申请号: 200680035702.7 申请日: 2006-09-15
公开(公告)号: CN101273429A 公开(公告)日: 2008-09-24
发明(设计)人: 衡石·亚历山大·尹;约翰·博伊德;安德拉斯·库蒂;安德鲁·D·贝利三世 申请(专利权)人: 朗姆研究公司
主分类号: H01J7/24 分类号: H01J7/24;H01L21/302
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人: 余刚;尚志峰
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 披露了一种产生用于从基片去除氟化聚合物的等离子的装置。该实施方式包括通电电极组件,其包括通电电极、第一介电层、以及第一金属丝网,该第一金属丝网设置于该通电电极和该第一介电层之间。该实施方式还包括接地电极组件,其相对该通电电极组件设置,从而形成腔,在该腔中产生该等离子,当该等离子存在于该腔中时,该第一金属丝网通过该第一介电层与该等离子屏蔽,该腔在一端具有出口,用于提供该等离子以去除该氟化聚合物。
搜索关键词: 用于 去除 氟化 聚合物 装置 方法
【主权项】:
1. 一种产生用于从基片去除氟化聚合物的等离子的装置,包括:通电电极组件,包括通电电极,第一介电层,以及第一金属丝网,其设置于所述通电电极和所述第一介电层之间;以及接地电极组件,其相对所述通电电极组件设置,从而形成腔,在该腔中产生所述等离子,当所述等离子存在于所述腔中时,所述第一金属丝网通过所述第一介电层与所述等离子屏蔽,所述腔在一端具有出口,用于提供所述等离子以去除所述氟化聚合物。
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